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塑料ITO膜磁控溅射卷绕镀膜机及其镀膜工艺

发布时间:2014-7-18 浏览次数:11

塑料ITO膜磁控溅射卷绕镀膜机及其镀膜工艺

1.薄膜卷绕系统必须是可逆的。

1.1薄膜必须在真空状态下低速除气,为了除气充分,可以正反进行几遍。

1.2ITO膜本身是一种极低速低效成膜,加入镀一遍后仍嫌电阻率大,可以镀第二遍。

2.必须解决开卷后的去气问题。

    2.1开卷后的真空要维持在5×10²Pa或更低,因此扩散泵机组是必须的。

2.2开卷过程必须对薄膜进行烘烤除气,薄膜基材的烘烤温度应当低于其软化温度,通常在100摄氏度左右。

3.必须很好解决溅射靶阴极杆的绝缘屏蔽问题。

4.INSn靶材混合要均匀,纯度要好,从而可以避免溅射过程中的因杂质渗杂而打火,保证ITO成膜质量。

5.氧气管路的分布位置、形状以及通气针孔的分布直接影响镀制出的膜的透光性,方阻大小和其均匀性。

关于供气方式,有两种可选。第一种,把ArO2两路气在真空室外按照比例先混合起来,将混合气体输入靶表面。第二种方法将两种气体分两路单独输送至靶表面,分别控制好两种气体的流量。

6.靶材采用的是混合体,氧化反应中通氧量与氧化温度难于控制。加入靶材直接采用氧化铟锡靶。那么塑料ITO的成膜技术和产量将会达到一个更新的阶段。