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走进新型工具镀膜设备技术的发展历程

发布时间:2014-5-21 浏览次数:11

  1.多层复合真空离子镀膜设备 

  90年代以来, 随着多弧—磁控溅射多功能镀膜设备的研制成功,为后来多层复合真空离子镀膜技术的应用和发展打下了良好的基础,随着社会的不断发展以及人们对镀膜要求认识的不断提高,多层复合镀膜技术应用于产品更加被人们所重视, 通过利用TiN良好的韧性来作为过度间隔层, 将原有的结构由单层变成多层, 提高了镀层的耐磨性和耐腐蚀性,同时在符合真空离子镀膜的技术中改进了原有多弧—磁控溅射所存在的问题,在多层复合真空离子镀膜的运用过程中,不仅保持了原有多弧技术离化率高、沉积速率大的特点,同时避免了原有工艺中“液滴”的缺陷。 

  2.真空蒸发镀膜设备 

  真空蒸发镀膜,顾名思义,就是在真空状态下将待镀材料加热后,达到一定的温度使其蒸发而以分子或原子的形态进入空间来达到镀膜的目的。真空镀膜均匀、附着力强,工具的机械性能和化学性能得到了提高,同时膜的纯度非常高、密实性好、表面光亮,大大提高了产品的产量。 

  3.真空磁控溅射设备 

  真空磁控溅射技术是利用阴、极两极表面配合的磁场使电子在阴极表面进行飘移,通过设置与靶面电场正交的磁场,增加电子行程,提高气体的离化率,同时高能量粒子与气体碰撞后失去能量而使得基体温度较低,在不耐温的材料上完成镀膜。真空磁控溅射镀膜有以下几种优点: 

  (1)镀膜的厚度可控制,可根据人们的需求镀制薄膜,并且可进行重复镀膜,同时还打破原有技术的限制,在较大的表面上获得厚度均匀的膜层; 

  (2)薄膜与基片的附着力强; 

  (3)可以制备出特殊材料的薄膜,可根据自己需要同时溅射制备混合膜、化合膜等; 

  (4)膜层纯度高。 

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