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磁控溅射技术的应用范围

发布时间:2014-7-30 浏览次数:11

磁控溅射目前是一种应用十分广泛的薄膜沉积技术,溅射技术上的不断发展和对新功能薄膜的探索研究,使磁控溅射应用延伸到许多生产和科研领域。在微电子领域作为一种非热式镀膜技术,主要应用在化学气相沉积(CVD)或金属有机化学气相沉积(MOCVD)生长困难及不适用的材料薄膜沉积,而且可以获得大面积非常均匀的薄膜。

包括欧姆接触的AlCuAuWTi等金属电极薄膜及可用于栅绝缘层或扩散势垒层的TiNTa2O5TiOAl2O3ZrO2AlN等介质薄膜沉积。光学薄膜应用反应磁控溅射技术已有多年,中频闭合场非平衡磁控溅射技术也已在光学薄膜(如增透膜)、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面得到应用。特别是透明导电玻璃目前广泛应用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器等。

透明导电玻璃在玻璃基片或柔性衬底上,溅射制备SiO2薄膜和掺杂ZnOInSn氧化物(ITO)薄膜。ITO薄膜最低电阻率接近1025Ω·cm量级,可见光范围内平均光透过率在90%以上。在光学存储领域,光盘存储自推出以来技术不断更新,磁控溅射也从镀制CD2ROMAlCD2RAuAg的光反射层,到CD2RW中镀制ZnS2SiO2/GeSbTe(AgInSbTe)/ZnS2SiO2/Al多层结构光记录媒介膜。

目前随着对光存储的需求大幅度的增加,磁控溅射在光学存储领域将发挥更大的作用。在现代机械加工工业中,表面功能膜、超硬膜,自润滑薄膜的表面沉积技术自问世以来得到长足发展,能有效的提高表面硬度、复合韧性、耐磨损性和抗高温化学稳定性能,从而大幅度地提高涂层产品的使用寿命,应用越来越广泛。

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